Бывший гендир Intel Гелсингер обратился к ускорителям частиц в поисках нового способа производства чипов

Бывший гендиректор Intel Пэт Гелсингер (Pat Gelsinger) стал председателем правления компании xLight, которая планирует использовать лазер на свободных электронах (FEL) в качестве источника излучения для литографического оборудования, работающего в диапазоне сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV).

Умные помощники: обзор ИИ-сервисов для обработки изображений. Часть 2, актуализированная

Обзор Ryzen 9 9950X3D2: правильный 16-ядерник с 3D-кешем

Обзор Infinix GT 50 Pro: геймерский смартфон со встроенной СЖО

Выбираем лучший игровой ноутбук до 100 000 рублей: сравнительное тестирование 7 интересных моделей

Репортаж с IEM Cologne Major 2026: Жаб Жабыч, триумф NiKo и главные сенсации мейджора по CS2

Источник изображений: xLight

Возможность использования ускорителя частиц для генерации излучения в литографических машинах обсуждалась давно, но xLight утверждает, что сможет создать такой источник к 2028 году, сохранив совместимость с уже существующим оборудованием. «В рамках моей новой работы в Playground Global я присоединился к xLight в качестве исполнительного председателя правления. Я буду тесно сотрудничать с Николасом Келезом (Nicholas Kelez) и его командой, чтобы создать самые мощные в мире лазеры на свободных электронах, используя технологии ускорителей частиц», — написал Гелсингер в сообщении на LinkedIn.

EUV-литография является передовой технологией производства полупроводниковой продукции, предполагающей использование источника излучения с длиной волны 13,5 нм. В настоящее время только компания ASML производит оборудование для EUV-литографии, в котором используется сложный способ генерации излучения с такой длиной волны. Существуют и другие методы создания источников излучения с чрезвычайно короткой длиной волны для производства чипов, и один из них предполагает использование ускорителя частиц в качестве источника, генерируемого создаваемой лазером плазмой (LPP).

Гелсингер заявил, что xLight использует технологию LPP для создания источника излучения, который обеспечивает в четыре раза большую мощность, чем любые доступные в настоящее время аналоги. EUV-установка Twinscan NXE:3600D компании ASML использует источник LPP мощностью 250 Вт, а установка NXE:3800E — около 300 Вт. ASML также демонстрировала в лабораторных условиях источник излучения мощностью более 500 Вт.

Пока ASML продолжает работать над увеличением мощности источников излучения, Гелсингер утверждает, что у xLight уже есть LPP-источник мощностью более 1000 Вт, который будет готов к коммерческому использованию к 2028 году. Он заявляет, что технология xLight позволит сократить стоимость одной кремниевой пластины примерно на 50 %, а также втрое снизить капитальные и операционные расходы, что станет значительным шагом вперёд в повышении эффективности производства. Технология xLight также потенциально может повлиять на снижение стоимости литографического оборудования на базе FEL.

Отмечается, что xLight не стремится заменить EUV-установки ASML собственными аналогами. Вместо этого стартап работает над LPP-источником, который будет совместим с оборудованием ASML.